鈣鈦礦實驗室涂布機

鈣鈦礦實驗室涂布機主要應(yīng)用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設(shè)計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數(shù)控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。

應(yīng)用場景：針對微米級特別是納米及亞微米級功能性涂層的涂布試驗、墨水調(diào)試、工藝研究、小規(guī)模制樣研發(fā)等。

涉及行業(yè)：包括水凝膠、液態(tài)金屬、智能包裝材料、光電材料、光刻膠、功能涂層、微電子及半導(dǎo)體封裝等大面積涂布制備，以及氫燃料電池膜電極、電解水制氫膜電極、鋰電池、各種活性催化劑、異質(zhì)結(jié)太陽能電池、薄膜太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池、有機太陽能電池、OLED柔性穿戴器件、有機場效應(yīng)晶體管,導(dǎo)電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管、鈣鈦礦光伏電池、鋰離子電池的電解質(zhì)和電極、染色敏感性太陽能電池、電子皮膚等器件的制備。

鈣鈦礦實驗室涂布機技術(shù)參數(shù) 

1.工藝流程： 手動放料--刮涂--手動取料，依次循環(huán)

2.設(shè)備結(jié)構(gòu)：封閉式

3.陶瓷吸附規(guī)格： 工作區(qū)域  ① 450mm(W)×550mm(L)。 ② 155.21mm(W)×136.2mm(L)。 可以獨立工作（其他工作區(qū)域可選）

4.適用玻璃厚度范圍：0.03-1.5mm

5.涂膠工作臺高度：900±20mm可調(diào)整  

6.適用涂布液：各種液態(tài)光學(xué)膠或感光膠

7.膠體粘度：5cps～6000cps （23±2℃時）。 （不同粘度范圍需以不同厚度Shim

片對應(yīng)）。 

8.涂布干膜厚度范圍：2～800um。  （根據(jù)涂布液固含量不同厚度范圍有波動）

9.有效涂布范圍內(nèi)涂布均勻性：3%-5%（除去涂布范圍周邊5-10mm之內(nèi)部）。

10. 涂布寬度：依玻璃基板尺寸及底部貼PET膜的預(yù)留無效邊而定，用不同開口的Shim片對應(yīng)。

11. 涂布有效范圍：玻璃基板整面有效，無效區(qū)為基板底部PET 膜四周多出的部分。

12. 機內(nèi)凈化：機臺頂部FFU上吹風(fēng)，機臺底部預(yù)留抽風(fēng)口。

13. FFU安裝位置：設(shè)備頂部

14.基板厚度確認(rèn)：測厚儀測量值（基板為含PET底膜厚度的整體厚度）。

15.涂布方式：龍門式狹縫刮膠涂布方式。 

16. 刮膠驅(qū)動：直線電機/伺服電機可選    高度調(diào)整電機為步進電機 

17.升降行程：150mm

18. 涂膠厚度檢測：Keyence感應(yīng)器非接觸檢測。（選配）

19. 涂布GAP控制精度：進料段Keyence測厚儀控制涂膠Gap，檢測精度±5微米

20.平臺平面度：10-15um。

21.平臺材質(zhì)：多孔陶瓷真空平臺。

22.平臺有效尺寸：450mm×550mm。

23.真空區(qū)域：2個  可獨立工作

24.吸附平臺框架材質(zhì)：不銹鋼 

25.刮刀數(shù)量：2組(1組大尺寸500X120X100mm、1組小尺寸205x120x100mm）。

26.狹縫刮刀尺寸：大尺寸500X120X100mm、小尺寸205x120x100mm）。

27.刮刀材質(zhì)：630不銹鋼

28.墊片數(shù)量：每個狹縫涂布頭標(biāo)配墊片2張（墊片厚度客戶自己選擇）

29.注膠管路：兩套管路系統(tǒng)，對應(yīng)一組泵（一套管路打樣測試使用，另外一套管路量產(chǎn)使用）。

30.進膠方式：伺服計量泵 齒輪泵適5-9000cps粘度膠體）。/注射泵式上料可選

31.計量泵流量范圍：1.8-21.6ml/min

32.計量泵電機參數(shù)： 臺達(dá)伺服電機 /0.4KW/220V/3000rpm

33.計量泵結(jié)構(gòu)：  電機/減速機/齒輪泵/控制系統(tǒng)

34.計量泵控制方式：7寸觸摸屏 

35.刮膠預(yù)涂機構(gòu)：涂布前手動無塵清潔刀口。

36.刮刀預(yù)干浸槽： 可移動接料盒。