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涂布試驗機

膜轉移涂布機涂布機條縫式涂布試驗機涂膜機膏藥機涂布器施膠機實驗室用涂布機刮刀式涂布機線棒式涂布機狹縫式涂布機熱熔膠涂布機

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鈣鈦礦液涂布機

更新時間：2025-05-07

型號：

瀏覽量：2169

鈣鈦礦液涂布機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。
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鈣鈦礦涂布機

更新時間：2025-05-07

型號：

瀏覽量：1648

鈣鈦礦涂布機適用于各種材料的實驗室打樣設備，同時可以選配增加真空吸附，上端加熱等輔助功能。
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ZB-XTB-60B OLED柔性穿戴器件涂布試驗機

更新時間：2025-05-06

型號：

瀏覽量：1916

ZB-XTB-60B OLED柔性穿戴器件涂布試驗機由本公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，本機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。
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ZB-XTB-60B有機太陽能電池涂布試驗機

更新時間：2025-05-06

型號：

瀏覽量：1428

ZB-XTB-60B有機太陽能電池涂布試驗機由濟南卓邦試驗儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，本機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性
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ZB-XTB-60B薄膜太陽能電池涂布試驗機

更新時間：2025-05-06

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ZB-XTB-60B薄膜太陽能電池涂布試驗機由本公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，本機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。
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ZB-XTB-60B異質結太陽能電池涂布試驗機

更新時間：2025-05-06

型號：

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ZB-XTB-60B異質結太陽能電池涂布試驗機由濟南卓邦試驗儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，本機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性
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ZB-XTB-60B納米催化劑涂布試驗機

更新時間：2025-05-06

型號：

瀏覽量：1440

ZB-XTB-60B納米催化劑涂布試驗機由濟南卓邦試驗儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，本機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。
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ZB-XTB-60B電解水制氫膜電極涂布試驗機

更新時間：2025-05-06

型號：

瀏覽量：1638

ZB-XTB-60B電解水制氫膜電極涂布試驗機由濟南卓邦試驗儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，本機主要應用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗機，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性
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